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  •   当社が提案する、2層レジストが、パワー半導体向けのリソグラフィー手法として、化学工業日報に掲載されました。(2023年5月25日付け) 


  • 当社社開発の微細化が可能な化学増幅型 i 線レジストが、化学工業日報に掲載されました。(2023年5月18日付け) 

 

  • 「重慶にレジスト工場」を建設するプロジェクトに当社が技術コンサルティングとして参画することが決定されました。詳細は 2022年7月11日付け 化学工業日報の第一面に掲載 


  • 2021年12月2日にIDW’21 にて発表した下記の論文発表が、  IDW '21の Outstanding Lightning Talk Paper Award に選ばれました。(2021年12月10日)

        https://www.idw.or.jp/award.html


  • IDW’21 (The 28th International Workshops)にて、当社開発の「近赤外線露光技術」を、"Near Infrared Photolithography and its Photoresist" として学会発表いたしました。(2021年12月1-3日)


  • 当社開発の「近赤外線露光技術」が、世界初の技術として、化学工業日報の第1面Top記事として掲載されました。(2021年6月22日)


  • 超低反射黒レジスト(反射率0.2以下)が新聞に掲載されました。

  (化学工業日報 2021年2月19日)


  •  極細線銅コイル形成可能な高アスペクト比の厚膜レジストが、化学工業日報にて紹介されました。(2020年3月30日)


  • スマホ用3Dカバーガラスの黒狭額縁(ベゼル)をフォトリソグラフィにより形成する方法、材料、装置が、化学工業日報にて紹介されました。(2020年3月19日)


  • 当社と台湾Consistent社にて開発された銅メッシュ、SNW(シルバーナノワイーヤー)製造技術が、2020年1月14日付け化学工業日報の電子部材欄で紹介されました。


  • 当社と台湾Consistent社にて開発された黒レジストが、「背高ブラックバンク実現」の見出しで、2019年12月10日付け化学工業日報の第一面に掲載されました。


  • 2019年12月 Fine Fine Process Technology展へ出展いたしました。


  • 2018年12月 Fine Process Technology展 へ出展いたしました。